磁控溅射台中标结果公告
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总投资 | 建设年限 | ||
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建设内容 |
中标结果公告
磁控溅射台中标结果公告
磁控溅射台项目(招标项目编号:C1100000189009732001),于2023年12月28日 10时00分00秒在北京市市辖区海淀区学院南路62号中关村资本大厦六层第一会议室进行了开标、评标等工作,并于2024年01月03日 15时34分47秒经建设单位定标,现将本次中标结果公告如下:
标段(包)编号:C1100000189009732001001
标段(包)名称:磁控溅射台
中标单位:北京创世威纳科技有限公司
中标金额:2,350,000.00元(贰佰叁拾伍万元整)
标的物名称 | 数量 | 中标价(元) | 型号 | 规格 | 技术标准 |
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磁控溅射台 | 1.0 | 2,350,000.00 | 投标方出厂型号 | 投标方出厂规格 | 满足圆柱形材料溅射要求 |
其它说明:0
特此公告。
招标代理:中招国际招标有限公司
日期:2024年01月03日