化学气相薄膜沉积设备中标结果公告(1)
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审批机关 | 审批事项 | ||
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审批时间 | 审批结果 | ||
建设内容 |
项目名称:化学气相薄膜沉积设备
招标项目编号:0613-214022126353/02
招标范围:化学气相薄膜沉积设备(后段以硅烷作反应物的二氧化硅) 2等离子体增强方式化学气相薄膜沉积设备(后段以硅烷作反应物的氮化硅) 1
招标机构:上海机电设备招标有限公司
招标人:华虹半导体(无锡)有限公司
开标时间:2022-01-18 09:30
公示时间:2022-02-17 14:58 - 2022-02-21 23:59
中标结果公告时间:2022-03-01 14:07
中标人:拓荆科技股份有限公司
制造商:拓荆科技股份有限公司
制造商国家或地区:中国